『JPIS』국내 치의학 SCIE 저널 중 최고 점수 받아

대한치주과학회(회장 구영, 이하 치주과학회)가 발행하는 SCIE 국제학술지인 『JPIS』(Journal of Periodontal & Implant Science)가 Thomson Reuters社가 운영하는 등재학술지 영향력 지수(impact factor) 평가에서 1.847점을 받았다. 이는 국내 치의학 SCIE 학술지 가운데 가장 높은 점수다.

『JPIS』는 2014년 SCIE 급 학술지로 처음 등재됐다. 등재 첫해에 영향력 지수는 1.145점이었고, 지난해에는 1.472점을 얻었다. 특히 올해 『JPIS』는 SCIE에 등재된 국제학술지 전체 91개 중 40위를 차지해 상위 50%(Q2) 이내 학술지 그룹에 처음으로 진입하는 성과를 거두었다.

구영 회장은 “학회 창립 60주년을 맞는 올해에 치주과학회의 공식 학술지가 국제적으로 역대 최고의 평가를 받아 더 의미가 있다”며 “학회지 발간에 힘써준 편집위원들의 노고에 감사를 전한다”고 소감을 밝혔다.

신승윤 『JPIS』 편집장은 “PubMed 등재 10년, 그리고 SCIE 등재 6년 만에 상위 50% 그룹에 진입한 것은 큰 의미가 있다”며 “앞으로 상위 25% 학술지 그룹에 진입하고자 게재 논문의 수준뿐만 아니라 출판윤리 강화에도 신경 쓸 것”이라고 포부를 밝혔다.

한편 치주과학회 공식 학회지 『JPIS』는 1971년 대한치주학회지로 출발, 2010년부터 현재와 같이 지명이 바뀌면서 영어로 발간되고 있다. 지난 10년간 『JPIS』에 게재된 논문 중 해외 투고는 전체의 22%를 차지하고 있으며 미국, 일본을 비롯해 교신 저자가 전 세계 23개국에 이르는 등 명실상부한 국제학술지로서 면모를 갖춰나가고 있다.

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